Global Informatics

- Информатика и вычислительная техника

Обработка пленок в тлеющем разряде

При помещении в тлеющий разряд тонкие пленки на диэлектрической подложке заряжаются электронами отрицательно относительно плазмы. Возникающее при этом электрическое поле ускоряет положительные ионы до энергии 1-4 эВ. Заряженные частицы с такой энергией могут возбуждать поверхностные атомы и активировать некоторые химические реакции (например, окислительные, восстановительные). Кроме того, электронно-ионная бомбардировка вызывает разогрев пленок. В результате такой обработки сопротивление ТПР может изменяться в пределах 4-20%. Точность подгонки невысока.

Статья в тему

Телеграфная связь РФ
Связь Российской Федерации (СРФ) на качественно новом этапе исторического развития определяется новым геополитическим положением России, происходящими в стране экономическими преобразованиями. Изменение статуса ЕАСС и образование на ее основе национальных сетей стран - бывших республик СССР, отказ о ...

Главные разделы


www.globalinformatics.ru © 2026 - Все права защищены!