Обработка пленок в тлеющем разряде

При помещении в тлеющий разряд тонкие пленки на диэлектрической подложке заряжаются электронами отрицательно относительно плазмы. Возникающее при этом электрическое поле ускоряет положительные ионы до энергии 1-4 эВ. Заряженные частицы с такой энергией могут возбуждать поверхностные атомы и активировать некоторые химические реакции (например, окислительные, восстановительные). Кроме того, электронно-ионная бомбардировка вызывает разогрев пленок. В результате такой обработки сопротивление ТПР может изменяться в пределах 4-20%. Точность подгонки невысока.

Статья в тему

Технология и техника изготовления бескорпусной интегральной микросборки
Эффективность производства и качество радиоэлектронной аппаратуры зависят от научно-технического уровня ее технологии, которая должна обеспечивать высокие параметры качества изделий. Технология интегральных микросхем и микропроцессоров стала существенной частью современного промышленн ...