Global Informatics

- Информатика и вычислительная техника

Материалы

Условные обозначения, принятые в таблице:

Прочность на отрыв: «+» - > 0,8 Н/мм, «0» - 0,5-0,8 Н/мм, «-» - как правило, такой способ металлизации не применяется Паяемость: «+» - стандартный процесс, «0» - требуется подбор параметров, «-» - специальный процесс 1 Специальный процесс

Перейти на страницу: 1 2 

Статья в тему

Технология изготовления диффузионых резисторов на основе кремния
Одним из основных достижений микроэлектроники является создание на основе фундаментальных и прикладных наук новой элементной базы интегральных микросхем. Развитие вопросов проектирования и совершенствование технологии позволило в короткий срок создать высоко интегрированные функци ...

Главные разделы


www.globalinformatics.ru © 2024 - Все права защищены!