Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Устройство управления радиорелейной станцией
печатный плата управление проводник
Станция является унифицированным цифровым тропосферно - радиорелейным средством связи и предназначена для организации линий и сетей радиосвязи различного уровня. Она позволяет создавать принципиально новые системы связи, решающие задачи как тропосферной, радиорел ...