Global Informatics
где - число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем .
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент , а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Устройства контроля прозрачности жидкости
На
сегодняшний день качество выпускаемой продукции выступает как важнейшая
характеристика производства, которая определяет эффективность технологии и
оборудования, структуру и организацию управления. Создание качества продукции
осуществляется на стадиях всего производственного пр ...