Global Informatics
где - число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем .
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент , а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Технические характеристики современных мультиметров
Понятие
"мультиметр" более точно отражает назначение этого
многофункционального прибора. Число имеющихся разновидностей настолько велико,
что каждый инженер может найти прибор, в точности отвечающий его специфическим
требованиям как по виду и диапазону измеряемых величин, т ...