Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Строительство волоконно-оптической линии связи на участке Чулым–Колывань
Опыт строительства ВОЛС в России и странах СНГ выявил ряд существенных отличий в организации, технологии поведения линейных и монтажных работ по сравнению с работами на традиционных электрических кабелях связи. Эти отличия в значительной степени обусловлены тем, что у ОК в отличие от электри ...