Global Informatics

- Информатика и вычислительная техника

Резонансный туннельный эффект

Таблица 1.

Материал

InGaAs

InAs

Si/SiGe

GaAs

Si (диод Эсаки)

J, кА/см-2

460

370

282

250

151

PVCR

4

3,2

2,4

1,8

2,0

ΔIΔV

5,4

9,4

43,0

4,0

1,1

Rd (Ω)

1,5

14,0

12,5

31,8

79,5

Площадь, мкм2

16

1

25

5

2,2

В таблице приведены значения плотности пикового тока Jp, коэффициента PVCR (отношение максимального тока к току в долине); предельная мощность устройства, т, е. максимум произведения ΔIΔV в области отрицательного дифференциального сопротивления NRD (в предположении 100%-й эффективности) и значение отрицательного сопротивления диода RD в области NRD.

Перейти на страницу: 1 2 3 

Статья в тему

Модуляционно-легированные транзисторы MODFET, биполярные транзисторы на гетеропереходах. Резонансный туннельный эффект
Высокая степень интеграции, характерная для современной кремниевой технологии, не может быть достигнута при использовании полупроводниковых соединений AIIIBV, однако эти соединения обеспечивают большее быстродействие, прежде всего, за счет высокой подвижности р носителей и меньши ...

Главные разделы


www.globalinformatics.ru © 2026 - Все права защищены!