Global Informatics
табл. 1.2.1
|
Характеристики материалов тонкопленочных резисторов | |
|
Материал резистора |
Сплав МЛТ-3М |
|
Материал контактных площадок |
Медь с подслоем нихрома |
|
Удельное поверхностное сопротивление rS, Ом/□ |
500 |
|
Температурный коэффициент сопротивления TKR, 1/град |
±2×10-4 |
|
Удельная мощность рассеяния Р0, Вт/см2 |
2 |
|
Коэффициент старения резистора КстR, 1/ч. |
±0,5×10-5 |
|
Способ нанесения пленок |
Термическое напыление |
|
Характеристики материалов тонкопленочных конденсаторов | |
|
Материал диэлектрика |
Боросиликатное стекло(БСС) |
|
Материал обкладок |
Алюминий (Al) |
|
Диэлектрическая проницаемость e на частоте 1кГц |
3,9…4,2 |
|
Удельная емкость С0, пФ/см2 |
1,5×104 |
|
Тангенс угла диэлектрических потерь tgd на частоте 1кГц |
0,001 |
|
Температурный коэффициент емкости ТКС, град-1 |
0,2×10-4 |
|
Электрическая прочность Епр, В/см |
(3…5)×106 |
|
Коэффициент старения емкости КстC, 1/час |
10-5 |
|
Способ нанесения пленок |
Термическое напыление |
табл. 1.2.2
|
Характеристики материала подложки | |
|
Материал |
Ситалл СТ50-1 |
|
Класс чистоты обработки |
13…14 |
|
Температурный коэффициент линейного расширения ТКЛР (х107) при Т=20…3000С, 1/град |
50±2 |
|
Коэффициент теплопроводности, Вт/(м ×0С) |
1,5 |
|
Диэлектрическая проницаемость при f=1МГц и Т=200С |
5…8,5 |
|
Тангенс угла диэлектрических потерь tgd(х104) при f=1МГц и Т=200С |
20 |
|
Объемное удельное сопротивление rV при Т=250С, Ом×см |
- |
|
Электрическая прочность Епр, |
- |
Материал для контактных площадок и проводников необходимо выбрать такой, чтобы:
. Обладал высокой адгезией с подложкой.
. Обеспечивал необходимую проводимость электрического тока.
. Должен быть: химически инертным, стабильным.
Всеми перечисленными выше свойствами обладает алюминий с подслоем нихрома. Подслой нихрома обеспечивает особо прочное соединение с подложкой и последующими слоями, слой алюминия обеспечивает высокую проводимость, химическую инертность и стабильность.
табл. 1.2.3
|
Характеристики тонкопленочных проводников и контактных площадок | |
|
Материал подслоя |
нихром Х20Н80 |
|
Толщина подслоя, мкм |
0,01…0,03 |
|
Материал слоя, мкм |
Медь МВ |
|
Толщина слоя, мкм |
0,6…0,8 |
|
Удельное поверхностное сопротивление rS, Ом/□ |
0,02…0,04 |
|
Рекомендуемый способ контактирования внешних выводов |
Сварка импульсным косвенным нагревом |
Статья в тему
Комбинационная схема управляющая семисегментным индикатором
Микроэлектроника
- это современная квинтэссенция электроники, в которой ее информационные
свойства достигают максимума, то есть плотность потоков информации на единицу
веса намного превосходят таковую в остальной электронике, а тем более в электротехнике.
Задача микроэлектроники - су ...