Global Informatics

- Информатика и вычислительная техника

Материалы, используемые для разработки микросборки

табл. 1.2.1

Характеристики материалов тонкопленочных резисторов

Материал резистора

Сплав МЛТ-3М

Материал контактных площадок

Медь с подслоем нихрома

Удельное поверхностное сопротивление rS, Ом/□

500

Температурный коэффициент сопротивления TKR, 1/град

±2×10-4

Удельная мощность рассеяния Р0, Вт/см2

2

Коэффициент старения резистора КстR, 1/ч.

±0,5×10-5

Способ нанесения пленок

Термическое напыление

Характеристики материалов тонкопленочных конденсаторов

Материал диэлектрика

Боросиликатное стекло(БСС)

Материал обкладок

Алюминий (Al)

Диэлектрическая проницаемость e на частоте 1кГц

3,9…4,2

Удельная емкость С0, пФ/см2

1,5×104

Тангенс угла диэлектрических потерь tgd на частоте 1кГц

0,001

Температурный коэффициент емкости ТКС, град-1

0,2×10-4

Электрическая прочность Епр, В/см

(3…5)×106

Коэффициент старения емкости КстC, 1/час

10-5

Способ нанесения пленок

Термическое напыление

табл. 1.2.2

Характеристики материала подложки

Материал

Ситалл СТ50-1

Класс чистоты обработки

13…14

Температурный коэффициент линейного расширения ТКЛР (х107) при Т=20…3000С, 1/град

50±2

Коэффициент теплопроводности, Вт/(м ×0С)

1,5

Диэлектрическая проницаемость при f=1МГц и Т=200С

5…8,5

Тангенс угла диэлектрических потерь tgd(х104) при f=1МГц и Т=200С

20

Объемное удельное сопротивление rV при Т=250С, Ом×см

-

Электрическая прочность Епр,

-

Материал для контактных площадок и проводников необходимо выбрать такой, чтобы:

. Обладал высокой адгезией с подложкой.

. Обеспечивал необходимую проводимость электрического тока.

. Должен быть: химически инертным, стабильным.

Всеми перечисленными выше свойствами обладает алюминий с подслоем нихрома. Подслой нихрома обеспечивает особо прочное соединение с подложкой и последующими слоями, слой алюминия обеспечивает высокую проводимость, химическую инертность и стабильность.

табл. 1.2.3

Характеристики тонкопленочных проводников и контактных площадок

Материал подслоя

нихром Х20Н80

Толщина подслоя, мкм

0,01…0,03

Материал слоя, мкм

Медь МВ

Толщина слоя, мкм

0,6…0,8

Удельное поверхностное сопротивление rS, Ом/□

0,02…0,04

Рекомендуемый способ контактирования внешних выводов

Сварка импульсным косвенным нагревом

Перейти на страницу: 1 2

Статья в тему

Модуляционно-легированные транзисторы MODFET, биполярные транзисторы на гетеропереходах. Резонансный туннельный эффект
Высокая степень интеграции, характерная для современной кремниевой технологии, не может быть достигнута при использовании полупроводниковых соединений AIIIBV, однако эти соединения обеспечивают большее быстродействие, прежде всего, за счет высокой подвижности р носителей и меньши ...

Главные разделы


www.globalinformatics.ru © 2025 - Все права защищены!